发布作品

    碳化硅在高频高压应用空间打开,国内企业开始加速替代

    研报院头像研报院头像
    研报院2022-08-18

    风光储领域供需缺口最大的器件,碳化硅在高频高压应用空间打开,国内企业开始加速替代!

    兴业证券指出,以碳化硅为代表的第三代半导体在高压高频领域应用优势明显,特别是在新能源车、风光储领域需求快速爆发,碳化硅供需存在巨大缺口。碳化硅领域,尤其是衬底技术壁垒高、价值量占比大,主要被国外垄断,目前国内企业开始加速突破,同时SiC功率器件国内企业也开始超车。

    1)第三代半导体在高频高压场景优势明显,碳化硅为核心材料

    第三代半导体材料具有禁带宽度大,具有击穿电场高、热导率高、电子饱和速率高、抗辐射能力强等特点,在高频、高压、高温等工作场景中,有易散热、小体积、低能耗、高功率等明显优势。

    碳化硅已成为目前应用最广、市占率最高的第三代半导体材料,碳化硅器件全球市场规模超过10亿美元。

    2)多应用领域驱动需求爆发,供给侧缺口巨大

    碳化硅器件在电动汽车、光电新能源、轨道交通等领域均存在广泛应用前景。碳化硅市场快速增长的两大驱动力:

    ①新能源汽车加速渗透,800V高压快充平台加速布局,拉动车用碳化硅器件需求,测算2025年全球新能源车车用6英寸碳化硅晶圆市场空间将达143亿元。

    ②风光储拉动碳化硅器件需求,测算2025年全球风,光储新增装机量将达687GWh,带来44.5亿元6英寸碳化硅晶圆需求量的增长。

    从供给端来看,碳化硅衬底、外延材料制作难度大,碳化硅产业链产能受限,全球厂商持续投入,但仍存在巨大供给缺口。

    3)各环节技术壁垒高海外龙头垄断,产业链加速国产替代

    SiC衬底占产业链主要价值量,具有极高制造难度,得益于国内政策大力扶持,衬底领域出现良好国产替代契机。

    SiC外延设备仍呈现四大龙头垄断格局,国内厂商紧追国际前沿加速切入外延晶片生产领域,已具备较高生产水平并逐渐接近海外领先水平。

    新一代半导体材料促使全新的封装工艺产生,有望带来价值量的提升。

    SiC功率器件时代来临,国内企业紧握超车机会,SiC器件和Si器件价差不断缩小,国产替代进程有望进一步提速。

    资料来源:内容均来自券商公开研报,如有侵权,请联系删除!

    风险提示:股市有风险,入市需谨慎!

    免责声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议,据此操作,风险自担!

    次阅读
    评论
    10赞同
    收藏
    分享
    评论
    10赞同
    收藏
    分享

    评论·0

    头像头像
    提交评论
      加载中…

      热门资讯